微電子元器件的可靠性研究論文
隨著科技的不斷發(fā)展，信息處理效率的提高，微電子器件的尺寸越來越小，這使得微電子器件的可靠性問題逐漸凸顯出來.微電子器件可靠性主要受四個方面的影響：柵氧化層、熱載流子、金屬化、靜電放電.通過對國內外現(xiàn)狀的分析，主要介紹了影響微電子器件可靠性的四個主要因素及其產生原理，并提出了提高微電子器件可靠性的解決方案及措施.
目前，飛速發(fā)展的微電子技術和不斷縮小的器件尺寸，都使得由于器件可靠性而造成的影響越來越嚴重.以靜電放電(Electro Static Discharge，ESD)為例，在靜電放電失效的基本機理研究方面，中美兩國研究人員對過電壓場致失效和過電流熱致失效的定義、原理以及在何種器件中哪種失效更容易發(fā)生等方面都研究得非常透徹.但是，具體到某一類型的微電子器件的ESD失效模式和基本機理，美國研究得更加充分且全面，并建立了 ESD [主要是人體模型(HBM)和帶電器件模型(CDM)] 的失效電路模型.另外，除了傳統(tǒng)的互補金屬氧化物半導體(CMOS)器件，美國還系統(tǒng)地研究了磁性讀寫頭、各種微電子芯片等器件[1].
目前，我國在微電子器件可靠性的研究方面加大了資金和技術投入，縮小了與美國的差距.但是對典型微電子系統(tǒng)的 ESD失效分析和對先進的失效分析技術手段、方法的研究和運用等方面仍然是我國科研工作者今后需要努力的方向.
1影響微電子器件可靠性的主要因素
影響微電子器件[如互補金屬氧化物半導體(CMOS)、金屬氧化物半導體場效應管(MOSFET)、垂直雙擴散金屬-氧化物半導體場效應晶體管(VDMOS)等]長期工作可靠性最主要的失效機理包括：熱載流子效應、柵氧化層及柵氧擊穿(即電介質經時擊穿，TDDB)、金屬化及電遷移、靜電放電(ESD).下面對這四種失效機理及可靠性模型等方面進行詳細介紹.
1.1熱載流子效應
熱載流子效應是電路中重要的失效模式之一.在超大規(guī)模集成電路中，隨著柵氧化層厚度、結深和溝道長度的減小，導致漏端電場增強，從而加劇了由熱載流子引起的可靠性問題.熱載流子注入氧化層會引起器件的閾值電壓漂移、跨導下降，甚至導致器件特性退化.隨著時間的推移，器件性能的退化將會導致整個電路失效.
1.1.1熱載流子效應對器件的影響
首先是熱載流子對器件壽命的影響.由于熱載流子的注入，器件氧化層中電荷的分布被改變，從而導致器件性能的退化.熱載流子還可加速器件老化.對晶體管進行最惡劣情況下的加速老化試驗，可推算出常規(guī)條件下器件的壽命，由此可衡量熱載流子特性的優(yōu)劣 [2].
其次，熱載流子效應的存在嚴重影響了場效應管MOS集成電路集成度及電路和器件的可靠性.圖1為柵氧化層厚度為40 nm、30 V電壓條件下，MOS電容柵電流Ig隨時間t的變化關系.從圖中可知，在恒定電壓下，柵電流隨著時間的增加而減小.
1.1.2熱載流子效應引起的失效現(xiàn)象[3]
(1) 雪崩倍增效應
在小尺寸MOSFET中，隨著源—漏電壓的升高以及溝道長度的縮短，夾斷區(qū)的電場也增強.這時，通過夾斷區(qū)的載流子將從強電場獲得很大的漂移速度和動能，就很容易成為熱載流子，同時這些熱載流子與價電子碰撞時還可產生雪崩倍增效應.
(2) 閾值電壓漂移
若夾斷區(qū)的一些熱載流子與聲子發(fā)生碰撞，得到了指向柵氧化層的動量，那么這些熱載流子就有可能注入柵氧化層中;進入柵氧化層中的一部分熱載流子還有可能被陷于氧化層中的缺陷處，變成固定的柵氧化層電荷，從而引起閾值電壓漂移和整個電路性能的變化.
(3) MOSFET性能的退化
溝道內的'一小部分有足夠高能量的熱載流子可以越過Si-SiO2界面的勢壘(電子勢壘高度Eb約為3.2 eV，空穴的Eb約為4.9 eV)，并且注入柵SiO2層中形成柵極電流Ig.此柵極電流盡管很小，但熱電子注入柵SiO2層中將會引起界面陷阱積蓄電荷，并且，電荷的積累經過一段時間之后會使器件性能退化，導致閾值電壓漂移、跨導降低和亞閾值斜率增大，甚至柵氧化層擊穿.
(4) 寄生晶體管效應
當有較大的襯底電流Isub流過襯底(襯底電阻為Rsub)時將產生電壓降(Isub·Rsub)，使得源—襯底的N+-P結正偏，從而形成一個“源—襯底—漏”的寄生N+-P-N+晶體管.該寄生晶體管與原來的MOSFET并聯(lián)構成了一個復合結構的器件.這種復合結構導致了短溝道MOSFET發(fā)生源—漏擊穿，還會導致CMOS電路中的閂鎖效應，使伏安特性曲線出現(xiàn)回滯現(xiàn)象.
1.2金屬化及電遷移
電遷移是指在很大電流的作用下，金屬原子發(fā)生擴散遷移的一種物理現(xiàn)象.電遷移中原子擴散方向與電子流動方向相同.電遷移將使得原子源源不斷地由陰極向陽極擴散，并逐漸導致在陰極形成空洞，在陽極則發(fā)生原子的堆積.這種過程將隨導電截面積的減小而加速進行，最終導致器件的失效[4].
電遷移現(xiàn)象是在直流電流作用下金屬中的離子產生位移所致.首先表現(xiàn)為電阻值的線性增加，到一定程度后就會引起金屬膜局部虧損而出現(xiàn)空洞，或引起金屬膜局部堆積而出現(xiàn)小丘或晶須，造成金屬互連線短路失效，嚴重影響集成電路的壽命.在器件向亞微米、深亞微米發(fā)展中，金屬互連線的寬度不斷減小，電流密度不斷增加，更易于因電遷移而失效[5].
1.3靜電放電(ESD)
在傳統(tǒng)的微電子器件中靜電放電的能量由于影響較小，人們很難察覺.但是在高密度微電子器件中則可能因為靜電電場和靜電放電電流引起失效，或造成“軟擊穿”現(xiàn)象，導致設備鎖死、復位、數據丟失和不可靠.這都對設備的正常工作產生較大影響，使設備的可靠性降低，甚至造成設備的損壞.據統(tǒng)計，在集成電路工業(yè)中由ESD引起的損失高達25%，因此，由ESD導致的損失是一個很嚴重的問題.1.3.1ESD模型的分類
根據靜電產生的原因和對電路放電方式不同，在集成電路中常用的ESD模型有四種：人體模型(HumanBody Model，HBM);機器模型(Machine Model，MM);器件充電模型(ChargedDevice Model，CDM);電場感應模型(FieldInduced Model，F(xiàn)IM).圖2為2 kV HBM、200 V MM與1 kV CDM的放電電流I比較.其中，雖然HBM的電壓比MM的電壓高，但是200 V MM的放電電流卻比2 kV HBM的放電電流大得多，因此機器放電模型對集成電路IC的破壞力更大.在不到1 ns的時間內，1 kV CDM的放電電流最高可達到15 A.所以CDM的靜電更易造成集成電路的損傷[6].
1.3.2ESD失效種類[7]
(1) 直接損傷
直接損傷是由電流產生的功耗引起的.它會熔化器件的一部分并造成故障.當電子器件暴露于ESD應力，該設備可能無法正常工作.ESD應力所造成的高電流使器件溫度升高，可能會造成金屬熔化，PN結或氧化層擊穿.IC內部晶體管會因為ESD電流產生的散熱造成永久性物理傷害.這些損傷產生的原理如圖3所示.焦耳熱產生的溫度上升可導致熔化的金屬膜晶體管的PN結尖峰長絲，PN結擊穿.金屬膜的熔化會導致開路.而PN結的擊穿可以通過退化的電流-電壓特性曲線觀察到，這時的曲線上會有一個異常的結漏電流.在最嚴重的情況下，ESD引起的功耗可以同時產生結細絲、結尖刺和金屬熔化.另一方面，ESD引起的電壓也可以在絕緣層上產生電場，絕緣層的擊穿電場強度越大，越會發(fā)生絕緣層的擊穿.
(2) 潛在損傷
強電場也會引起電荷注入.Si-SiO2界面處的強電場會加速表面處的載流子運動.當載流子獲得足夠的能量時就能越過Si-SiO2界面勢壘，并注入氧化層[如圖4(a)].此時，失效分析手段無法在氧化層中發(fā)現(xiàn)物理損傷，但氧化層的電荷狀態(tài)變化可能會導致器件晶體管的電流-電壓特性改變.電荷注入會使電路退化，但與破壞性失效不同的是，它并不會使器件完全失效，所以稱為ESD引起的潛在損傷，圖4(b)是它的極限形式(氧化層擊穿).潛在的損害難以確定，因為即使產生了一定退化，設備仍然可以工作.然而，如果一個芯片中含有潛在損傷的晶體管，那么整個芯片就有可能出現(xiàn)過早失效或芯片故障.一些基本的特性測試(如漏電流測量等)可以確定破壞性的損傷，但是潛在損傷卻很難檢測出來.
1.4柵氧化層及柵氧擊穿
隨著MOS集成電路微細化的發(fā)展，柵氧化層向薄膜方向發(fā)展.而電源電壓卻不宜降低，在較高的電場強度下，使柵氧化層的性能成為一個突出的問題.柵氧化層抗電性能不好將引起MOS器件電參數不穩(wěn)定，如閾電壓漂移、跨導下降、漏電流增加等，甚至引起柵氧化層的擊穿.柵氧化層擊穿作為MOS電路的主要失效模式已成為目前國際上關注的熱點.柵氧化層擊穿主要分為四種：本征擊穿(瞬時擊穿);非本征擊穿;經時擊穿TDDB;軟擊穿.
有關氧化層TDDB問題的研究很多，其中最受重視的是氧化層的TDDB壽命.在20世紀70年代后期，根據實驗數據，有研究人員提出了關于柵氧化層TDDB壽命拓展的經驗式，即式中：TF為中期壽命;ΔH*0為柵氧化層TDDB激活焓;T為溫度;kB為玻爾茲曼常數;γ為電場加速因子;Eox為氧化層電場強度.
針對上述經驗式，提出了兩種經典模型：
(1) E模型：由熱化學擊穿模型得到.該模型認為氧化層的退化與擊穿是電場作用的結果，由缺陷的產生和積累決定，即
式中：Q1為E模型過程的激活能.
(2) 1/E模型：由空穴擊穿模型得到.該模型在電子隧穿注入的基礎上，認為氧化層擊穿是由空間電荷積累造成的，并認為擊穿所需的總俘獲空穴電荷量一定，即[8]
式中：G為1/E模型的電場加速因子; Q2為1/E模型過程的激活能.
圖5為E模型、1/E模型與TDDB實驗數據的對比.由圖中可以看出，在低場強中，E模型與實驗數據的吻合較好，而采用1/E模型估計的中期壽命TF值偏大;在高場強中，1/E模型與實驗數據的吻合較好，而E模型估計的TF值偏小.從實際應用看，在工業(yè)中，由于E模型比1/E模型計算的壽命要短，所以工業(yè)上一般采取E模型.
2提高微電子器件可靠性的主要措施
2.1抑制熱載流子效應的措施
在設計超大規(guī)模集成電路時，可采用減小溝通道長度、減薄氧化層厚度以及相應增加摻雜濃度等方法達到高速度和高集成度的設計要求.但是，這些綜合結果卻易導致熱載流子的產生.針對上述情況，可通過以下方法抑制熱載流子效應：
(1) 減小漏結附近的電場，可使熱載流子發(fā)射的可能性降低.
(2) 改善柵氧化層的質量，采用完美的干法氧化工藝，降低熱載流子陷阱密度和俘獲截面，能夠減小由于熱載流子注入柵氧化層而對器件性能的影響.
(3) 可在電路和版畫設計上采取如采用鉗位器件或適當增大寬長比等措施.
(4) 采用一些新結構，如低摻雜漏(Lightly Doped Drain，LDD)結構等，可提高擊穿電壓，減少碰撞電離.
2.2改善金屬化引起可靠性問題的方法[9]
目前，提高半導體器件金屬化和接觸可靠性的主要方法有界面效應、合金效應、覆蓋效應和回流效應.
(1) 界面效應
因為器件性能的提高，熱電應力在器件金屬化單位面積上不斷增大，導致金屬與金屬、金屬與半導體之間的界面擴散及反應的幾率增大，或許會形成金屬與金屬的高阻化合物，上層金屬穿過阻擋層進入半導體中也可能使器件漏電增大或結短路.因此，界面效應成為目前急需解決的問題.解決界面效應最有效的方法是選擇一個合適的阻擋層.事實上，為了防止金屬與金屬以及金屬與半導體的反應及擴散，引入了金屬阻擋層.TiN熔點高，熱穩(wěn)定性和化學穩(wěn)定性好，有極高的硬度和較低的電阻率，干法和濕法刻蝕工藝成熟，與硅的粘附性較好，因此是一種高性能的阻擋層材料.(2) 合金效應
在中小功率器件和集成電路中，由于Al金屬化系統(tǒng)工藝簡單成熟，并且價格便宜，所以被普遍采用.但是Al的一個很大問題是容易產生電遷移.為了改善Al的電遷移壽命，在Al中加入少量的Cu可以大大改進Al膜的電遷移壽命(1～2個數量級).另外，事先在Al中加入少量Si可以減小互溶，這樣不僅提高了Al的電遷移壽命，還解決了由于Al-Si 界面互溶而引起的短路失效問題.所以人們將兩者結合，采用Al-Si-Cu合金，發(fā)現(xiàn)Al的電遷移壽命顯著增加，并且限制了Al、 Si的互溶.
(3) 覆蓋效應
在金屬薄膜上覆蓋介質后，不僅可有效提高設備的抗劃傷性、抗腐蝕、抗電遷徙、抗電流浪涌和抗離子粘污能力，還可改善薄膜的微觀結構.總之，介質覆蓋可以增強薄膜的抗電遷徙能力，提高調制傳遞函數(MTF).這是表面抑制、熱沉效應和壓強效應綜合作用的結果.
(4) 回流效應
從理論上說，總有一個時刻，正向電遷徙動和回流將完全抵消，使凈離子遷徙流為零.顯然，回流可被用來降低電遷徙動失效，提高金屬化可靠性.因此，人們提出了超大規(guī)模集成電路的三層金屬化歐姆接觸孔回流加固結構.
2.3ESD防護措施
2.3.1建立防靜電環(huán)境
通常采用以下措施建立防靜電環(huán)境：
(1) 使用等電位連接的方法，即所有表面都連接在一個可靠的接地體上.這些表面使得靜電荷積累減小，并且可以控制電荷以泄入到大地，從而防止不同的對象和靜電電荷之間的電位差，還可有效地釋放靜電電荷.
(2) 采用防靜電周轉箱、防靜電包裝袋以防止起電.
(3) 使用防靜電服裝、防靜電鞋.一方面，它們可有效地抑制靜電荷的產生;另一方面，當它們與地接觸時，還能達到釋放靜電荷的功能.另外，將防靜電劑噴涂在物體表面，也可有效抑制靜電荷的積累.
(4) 使用離子風靜電消除器并適當控制濕度，能夠消除絕緣材料表面的靜電荷.
(5) 采用測量監(jiān)控的方法，使用靜電檢測儀檢測人體是否帶靜電，監(jiān)測防靜電設施是否正常[10].
2.3.2設計過程中的防護措施
以電源和地之間的保護為例，可采用反饋及動態(tài)延時結構檢測電路的電源和地的ESD保護電路.這種電路占用芯片面積小，使用相移電路(RC電路)偵測ESD電壓，把偵測到的電壓通過一個反相器輸送到襯底觸發(fā)場氧器件(STFOD)上，釋放靜電電流.STFOD器件具有較強的單位靜電釋放能力.這種電路的 ESD 脈沖上升時間僅10 ns左右，電路正常上電延遲時間大概是1 μs～1 ms，而ESD偵測電路中RC電路時間常數介于兩者之間.
由于采用了反饋及動態(tài)延時結構，使得電路能夠在靜電發(fā)生時間內迅速地將靜電電流釋放，及時將保護電路關閉，避免器件的柵氧化層因電擊穿而遭到破壞.
2.4改善柵氧化層擊穿影響器件可靠性的措施
在柵介質中引入適量N可提高器件的抗擊穿能力.這主要是由于N具有補償SiO2中O3≡Si和Si3≡Si等由工藝引入的氧化物陷阱和界面態(tài)陷阱的作用，從而減少初始固定正電荷和Si-SiO2界面態(tài).柵介質的擊穿主要是由于正電荷的積累引起的，因此在柵介質中引入適量的N可以改善柵介質的性能[11].另外，通過比較TDDB值及其失效分布可以評估集成電路氧化、退火、拋光、清洗、刻蝕等工藝對柵氧化層質量的影響.工藝中要采取有效的潔凈措施，防止沾污.熱氧化時采用二步或三步氧化法生長SiO2層.可以用化學氣相沉積(CVD)生長SiO2或摻雜氮氧化物以改進柵氧化層質量.
3結論
微電子器件可靠性主要受四方面的影響：熱載流子效應、柵氧化層及其擊穿效應、金屬化及靜電放電(ESD).雖然完全去除以上影響是不可能的，但要盡可能采取適當措施提高器件的可靠性.從目前的研究結果看，可以比較有效地改善微電子器件可靠性的預防措施有：一是采用減小溝通道長度、減薄氧化層厚度以及相應增加摻雜濃度的方法減小熱載流子效應對微電子器件可靠性的影響;二是采用界面效應、合金效應、覆蓋效應和回流效應等方法，使金屬化及電遷移對微電子器件可靠性的影響降到最低;三是建立防靜電環(huán)境，采用反饋以及動態(tài)延時結構檢測電路都可以很好地預防ESD對器件的損傷，提高微電子器件的可靠性;四是在柵介質中引入適量的N可以提高器件的抗擊穿能力，降低柵氧化層擊穿效應發(fā)生的概率，使微電子器件的可靠性有所提高.
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